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産業は危険な物を御して進歩してきた側面があるにせよ、先端半導体プロセスは無理し過ぎなのでは?

ASCII.jp:引火性危険物で冷却しないといけない露光機 EUVによる露光プロセスの推移 (1/3) - ascii.jp/elem/000/004/135/4135

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